二氧化硅称号： 二氧化硅（SiO2）履历告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，而且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.SiO2薄膜要是压力过大，薄膜将有气孔而且易碎，农用塑料薄膜，相反压力过低薄膜将有吸收而且折射率变大，需求充分供应高能离子或氧离子以便得到符合需求的速度和特征，须要是需求氧气和混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种性况不存在.SiO2用于防反膜，冷光膜，透明塑料薄膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.透光局限（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸起源 应用 杂气排放量200--2000 1.46 1800-2200 电子枪，防反膜，增透 少，升华无色颗粒状，折射率巩固，放气量少，大棚塑料薄膜，和OS-10等高折射率质料组合制备截止膜，滤光片等.




锗化锌称号：锗化锌（ZnGe)疏散的锗化锌具有一个比其相对较高的折射率，在500NM时N=2.6，在可见光谱区以及12000-14000NM地区具有较少的吸收性并且疏散的锗化锌没有其材质那么硬.应用钽舟将其蒸发到150℃的基板上制备SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜层试图获到长波长IR渐低折射率的光学滤镜.氧化铪称号：氧化铪（HfO2）在150℃的基板上有用电子枪蒸着，折射率在2.0左右，用氧离子助镀大约取和得2.05-2.1巩固的折射率，益阳塑料薄膜，在8000-12000NM区HFO2用作铝护卫膜外层好于SIO2

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塑料薄膜产生静电是什么原因

1.微观原因：根据原子物理理论，电中性时物质处于电平衡状态，由于不同物质的接触产生电子的得失，使物质失去电平衡，产生静电现象。

2.宏观原因：物体间摩擦生热，激发电子转移；物体间的接触和分离产生电子转移；电磁感应造成物体表面电荷的不平衡分布；摩擦和电磁感应的综合效应。

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